CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

期刊信息导读

1. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION基本信息
• 研究方向
• 官方网站
2. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION中科院SCI期刊分区
3. 历年CHEMICAL VAPOR DEPOSITION影响因子趋势图
4. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION期刊英文简介
5. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION期刊中文简介

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION基本信息

简称：CHEM VAPOR DEPOS

研究方向：工程技术

SCI类别：无

是否OA开放访问：No

出版地：GERMANY

出版周期：Bimonthly

涉及的研究方向：工程技术-电化学

通讯方式：WILEY-V C H VERLAG GMBH, PO BOX 10 11 61, WEINHEIM, GERMANY, D-69451

官方网站：http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862

审稿速度：>12周，或约稿

平均录用比例:容易

PMC链接：http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0948-1907%5BISSN%5D

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION期刊英文简介

From 2016, the journal Chemical Vapor Deposition will be published as a section of the journal Advanced Materials Interfaces.Please click here for more information.Chemical Vapor Deposition (CVD) publishes Reviews, Short Communications, and Full Papers on all aspects of chemical vapor deposition and related technologies, along with other articles presenting opinion, news, conference information, and book reviews.All papers are peer-reviewed. The journal provides a unified forum for chemists, physicists, and engineers whose publications on chemical vapor deposition have in the past been spread over journals covering inorganic chemistry, materials chemistry, organometallics, applied physics and semiconductor technology, thin films, and ceramic processing.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION期刊中文简介

从2016年起，《化学气相沉积》杂志将作为《先进材料界面》杂志的一部分发表。请点击这里获取更多信息。化学气相沉积(CVD)发表关于化学气相沉积和相关技术的所有方面的评论、短通信和全文，以及其他介绍意见、新闻、会议信息和书评的文章。所有论文都经过同行评审。该杂志为化学家、物理学家和工程师提供了一个统一的论坛，他们关于化学气相沉积的出版物在过去已经遍布于无机化学、材料化学、有机金属学、应用物理和半导体技术、薄膜和陶瓷加工的期刊上。

中科院SCI期刊分区：

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION影响因子

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